痕量和超痕量分析在科研、工业和检测等各个领域发挥着越来越重要的作用，这些灵敏的分析技术对分析过程中的污染风险零容忍。纯水在其中，参与清洗部件、冷却、标准曲线绘制、样品制备等诸多环节。水的纯度，必须符合严苛的要求。

    Genie De-ion 是乐枫设计，与Genie G 或Genie PURIST 智能超纯水系统配合使用的纯化、取水终端，提供离子含量低至ppt 甚至亚ppt 水平的分析级超纯水，使用者可通过Genie 主控屏、终端触摸屏或脚踏开关控制取水。Genie De-ion 适用于电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）、石墨炉原子吸收（GF-AAS）等多种痕量/ 超痕量元素分析技术。

Genie De-ion 痕量分析用纯化取水终端特点

● 装有 ICP 型超纯化柱，对超纯水进行深度纯化进一步去除痕量离子，持续提供ppt 或亚ppt 离子水平的超纯水。

· 优化水路设计，提高过水量，水质稳定。

· 柱体强耐压，接口双重密封，漏水风险低。

· 带智能识别码（RFID），智能化管理，工作状态实时监控，追溯水质历史数据、使用参数等。

· 安装更换简单，可以单手操作。

● 终端自带彩色触摸屏

· 2.4 英寸，实时显示水质/ 流速等常用信息。

· 可戴手套和带水操作。

· 设置手动或定量取水，调节流速。

● Genie De-ion 痕量分析用纯化取水终端布局灵活，安装便利，节省实验室空间

性能指标